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相控阵检测内壁腐蚀实验
1、检测系统：
设备：OLYMPUS OmniScan MX2；
探头：5L16-A10；
楔块：0L-A10；
编码器：MINI；
试块：阶梯试块（开φ8平底孔）；
2、实验过程：
a.调试设备：厚度设置，探头楔块的选择，技术选择0度线扫。
b.聚焦法则：晶片数量8/4，起始晶片1；终止晶片：16；晶片步进：1；聚焦：10mm；
3、实验结果：
阶梯试块
晶片数量4检测效果。
晶片数量4检测效果。
4、结论：
采用OmniScan MX2检测腐蚀，单晶线性探头可用，B扫描检测结果直观定量准确，C扫描检测结果直观易见，无法对面积定量，索引轴为未校正标尺，无法对面积进行定量。可采用TOMview，进行体积融合。
5、注意事项：
实验只留A闸门；C扫描显示好的效果需套底波及之前部分，掌握闸门宽度；C扫描面积测量认识。
