[请教] 关于磁轭磁极间距的问题

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查看13690 | 回复8 | 2014-6-10 10:05:23 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 李济科 于 2014-6-11 15:00 编辑

     《承压设备无损检测 学习指南》第194页(第4篇第2章十四磁轭法)有下列叙述:“JB/T4730-2005将最小磁极间距扩大到75,与ASME规范一致。”
       笔者手头有2010年版的ASME V ,笔者未从该书第7章、第25章找到关于磁轭磁极间距的规定。也许,笔者老眼昏花,未找到地方,望MT专家不吝赐教。

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王绪军 | 2014-6-11 21:47:59 | 显示全部楼层
我看了ASME V -2007也没有,EN有规定!
李济科 | 2014-6-12 09:22:41 | 显示全部楼层
谢谢王绪军先生!
李济科 | 2014-6-12 09:38:20 | 显示全部楼层
本帖最后由 李济科 于 2014-6-12 10:12 编辑

ASME  v 对磁极间距为什么没做具体规定?比如我国的75--200mm?是ASME     V 疏漏,还是另有深意?福州张先生提出小径管MT问题,对ASME V就没有75mm下限了,一切以灵敏度试片和提升力决定(当然,也要防止磁极吸引磁粉掩盖有用显示)。我认为该措施,对小件反倒灵活。望坛友赐教!
贺树春 | 2014-6-12 11:57:38 | 显示全部楼层
学习了,平时只知道间距是75~200MM。但是我检测某些结构较为不规则的会小于75间距,哪时候我是已灵敏度试片为准。
低调做人,高调做事。
王绪军 | 2014-6-13 20:59:17 | 显示全部楼层
是ASME V 疏漏,还是另有深意?

我觉得是另有深意!
福州张 | 2014-6-19 10:48:06 | 显示全部楼层
李济科 发表于 2014-6-12 09:38
ASME  v 对磁极间距为什么没做具体规定?比如我国的75--200mm?是ASME     V 疏漏,还是另有深意?福州张先 ...

虽然从理论上来说,磁轭的磁极附近(距磁极25mm范围内)磁力线密度过大,易产生非相关显示,从而干扰相关显示。但是小径管MT时,为什么标准试片上的人工缺陷磁痕能够清晰显示呢(参以前发布的照片)?笔者认为:究其原因,是由于小径管曲率半径较小,跟磁极的接触面积较小,不像平板那样是平面接触(接触面大),使得由磁极进入小径管表层的磁力线(用AC磁化)比平板的要少得多,这也就降低了进入管子表面的磁通量,从而抵消了因“磁极附近磁力线密度过大”而造成的上述不利影响。
事物本身有其普遍性,也有其特殊性,标准上的只是MT的一般的普遍要求。特殊情况,特殊处理。标准试片的功能之一,用于检验磁化方法的正确与否,它小巧玲珑、携带方便、快速好用,避免了烦杂的计算,便于检测现场使用。笔者认为:小径管在进行AC磁化时,只要①提升力≥45N(磁极与工件表面间隙0.5mm)②只要标准试片上的人工缺陷磁痕能够清晰显示,即可有效地进行MT

梁金昆 | 2014-7-3 10:59:16 | 显示全部楼层
同意张先生评论!
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