梁金昆

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〔RT设备杂记〕关于x射线管阳极靶的四个术语

热度 18已有 836 次阅读2013-5-17 05:59 | x射线, 设备

由于远东BBS有个关于“反射靶” 的帖子，被朋友加盖了图章。因此，想介绍:放射医学影像理论广泛应用的、关于靶的四个术语。如有不当，请指正。

1薄靶与厚靶

当靶材确定时，打靶电子在靶中的射程R，决定于打靶电子的动能---管电压或打靶电压。我们讨论打靶电子束动能和靶厚度t匹配问题---韧致辐射强度在空间分布问题，就要先进行薄靶与厚靶的区分。我们把t≤R的靶，称为薄靶;t>R，称为厚靶。笔者依据资料〔1〕作如此界定。

笔者根据资料〔2〕推断:500KeV的打靶电子在钨中的射程R小于0.5mm。普通x射线机钨靶厚度t一般为2mm，在钨靶后面还有铜阳极体，所以实际使用的普通x射线管，都是厚靶。

2 透射靶和反射靶

上述薄靶和厚靶，又称为透射靶和反射靶。其含义是:电子束从靶的一面射入，而x射线从从靶的另一面射出的靶，为透射靶。如以逸出靶面的x射线束轴线，与打靶电子束方向（从左向右以AB表示）夹角α来区分，透射靶，α〈90度; 电子束从靶的一面射入，而x射线从从靶的同一面射出的靶，为反射靶，即反射靶的α≥90度。笔者依据资料〔3〕作如此界定。