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3 漏磁场产生的原因
3.1 漏磁场产生的第一个原因:表面近表面磁力线局部发生畸变
教材第4页有下列叙述:
“铁磁性材料工件被磁化后,由于不连续性的存在,使表面和近表面的磁感应线发生局部畸变……”
由教材第4页图1-1可知:在无缺陷情况下,代表磁场的磁力线被封在工件中,与工件表面平行,且走向分布均匀。而在有缺陷处,磁力线局部发生畸变(绕射),该畸变部分就不与工件表面平行了,且走向分布疏密不均。笔者注:该图近上表面缺陷处,磁力线局部“直射”逸出,不准确,应为“折射”逸出。
下面就要讨论两个问题:
这在“2 预备知识---磁路定律”已经讲过了,即:由于缺陷的存在,磁力线可能一部分穿过缺陷,还有些磁力线会沿缺陷四周绕射---畸变。
如教材图1-1所示,由于表面和近表面磁力线畸变,磁力线不再在工件内部与工件表面平行,而是可能与工件表面交叉了,或者说,磁力线可以入射到工件/空气界面,具备了折射条件。
3.2 漏磁场产生的第二个原因:界面折射
教材第40页讲折射。当磁力线入射到工件/空气界面,只要入射角α1〈900(不平行于界面),磁力线就会离开工件被折射到空气中去(由于μ1>>μ2,入射角大,折射角很小,见图2-51)。然而,磁力线是个封闭而不能中断的线,它也遵守磁路定律,因此,被折射到空气中去的磁力线,在绕过缺陷位置后,又由空气入射到空气/工件界面,被折射回到---进入工件中去(入射角很小,折射角很大)。如前所述,所谓“漏磁场”,就是在铁磁性工件磁路中,又加上一段空气磁路。
3.3 漏磁场产生的第三个原因: 工件受检区达到近磁饱和或基本饱和状态
以上讨论的绕射和折射,似乎与磁通密度B,没什么直接关系。但当工件达到近磁饱和或基本饱和时,既使是铁磁性工件,其磁导率μ也会变小,磁阻变大;当工件中有缺陷时,缺陷四周的磁力线因挤压过饱和,堵塞磁路。当缺陷处于表面近表面时,更容易形成漏磁场。
4 影响漏磁场的因素
这方面教材第42-44页已经讲得很好了,我只强调两个方面:第一,外加磁场强度足够大(达到近磁饱和区或基本饱和区);第二,缺陷必须在表面或近表面---缺陷埋藏深度小(而不是强调工件的厚度大小)。