交流磁轭法只能用于检测表面开口缺陷么？

luolang1314 发表于 2016-1-5 10:47
翻了下ASME V 2013 中文版及英文版，均没有找到只能检测表面开口缺陷的叙述。不知道梁老指的是哪一节？在第 ...

能不能发我一份，谢谢！1522794058@qq.com

吹哥来了 发表于 2016-1-6 14:02
能不能发我一份，谢谢！

论坛就有下载的。文件太大，我试图给坛友发送过，发送失败。
只有在本论坛搜索就可以得到。如果有任何问题，可以联系我。我可以给一个链接。

网速太慢没法下载来看下，无论其它资料还是我们自己平时做的测试来看，我觉的应该不会是这样。

但看到梁老这个问题，我倒是想起我们新的NBT47013对MT检出范围规定是表面开口和近表面缺陷，以前我们的教材和标准都是表面和近表面。。  表面开口缺陷和表面缺陷我觉的是一回事，只是为了和国外标准接轨更改了一下而已，既然是表面的缺陷，那肯定都是开口的啊，不存在表面闭合缺陷，如果闭合那就在近表面了。

我见过的检测近表面的缺陷示意照片，：
用的是直流+红色干磁粉  

表面闭合缺陷，以前干活时没有遇到过，只有在特检培训教材上提到过：
喷砂件的检验，不允许PT，只能MT

查 SE 709   ASME 卷5    页面截图我发上来了，近表面检测，电流波形有要求，全波整流，半波整流

15年版和13年版一样，都引用的ASTM SE 709   08版

检测近表面缺陷,对磁轭电源波形有要求,不能因此说明规范明确规定:磁轭法只能适合检测表面开口缺陷。我在提问时，有意明确"交流磁轭"，既使这样，问题的回答，也应该是否定的！

我认为:磁粉检测缺陷的位置，有表面和近表面两个术语，就够了。至于缺陷是否有开口，不必管它，那是渗透检测应该关心的。几年前，我在远东网以"李济科"名字写过"表面和近表面术语学习笔记"，有过探讨，但不深不透，不好。

磁粉检测的人工缺陷试样，几乎全是埋藏试样，即正面不开口的。2015年第12期许遵言等先生的文章，表1和表2的显示槽或孔深,均指埋藏深度，并非缺陷自身高度。从这一点来看，表1和表2说明，交流磁轭法也可检出表面不开口的埋藏缺陷。当然，换成触头法或使用整流电源，效果自然更好。感谢许遵言先生给我们提供了这多试验结果，让我们分享。

梁金昆 发表于 2016-1-8 10:53
磁粉检测的人工缺陷试样，几乎全是埋藏试样，即正面不开口的。2015年第12期许遵言等先生的文章，表1和表2的 ...

这个实验对于TOFD检测也有非常大的意义：即采用磁粉检测改善TOFD盲区，提供深度方面的依据。
为TOFD工艺优化提供基础实验数据。

我们这次讨论，特别是结合许先生的试验文章和tapa朋友提供的资料(SE 709   08版),
可否请罗琅先生总结一下呢？