关于磁轭磁极间距的问题

     《承压设备无损检测 学习指南》第194页（第4篇第2章十四磁轭法）有下列叙述：“JB/T4730-2005将最小磁极间距扩大到75，与ASME规范一致。”

       笔者手头有2010年版的ASME V ，笔者未从该书第7章、第25章找到关于磁轭磁极间距的规定。也许，笔者老眼昏花，未找到地方，望MT专家不吝赐教。

我看了ASME V -2007也没有，EN有规定！

谢谢王绪军先生！

ASME  v 对磁极间距为什么没做具体规定？比如我国的75--200mm？是ASME     V 疏漏，还是另有深意？福州张先生提出小径管MT问题，对ASME V就没有75mm下限了，一切以灵敏度试片和提升力决定(当然，也要防止磁极吸引磁粉掩盖有用显示)。我认为该措施，对小件反倒灵活。望坛友赐教！

学习了，平时只知道间距是75~200MM。但是我检测某些结构较为不规则的会小于75间距，哪时候我是已灵敏度试片为准。

是ASME V 疏漏，还是另有深意？

我觉得是另有深意！

学习了

李济科 发表于 2014-6-12 09:38
ASME  v 对磁极间距为什么没做具体规定？比如我国的75--200mm？是ASME     V 疏漏，还是另有深意？福州张先 ...

虽然从理论上来说，磁轭的磁极附近（距磁极25mm范围内）磁力线密度过大，易产生非相关显示，从而干扰相关显示。但是小径管MT时，为什么标准试片上的人工缺陷磁痕能够清晰显示呢（参以前发布的照片）？笔者认为：究其原因，是由于小径管曲率半径较小，跟磁极的接触面积较小，不像平板那样是平面接触（接触面大），使得由磁极进入小径管表层的磁力线（用AC磁化）比平板的要少得多，这也就降低了进入管子表面的磁通量，从而抵消了因“磁极附近磁力线密度过大”而造成的上述不利影响。

事物本身有其普遍性，也有其特殊性，标准上的只是MT的一般的普遍要求。特殊情况，特殊处理。标准试片的功能之一，用于检验磁化方法的正确与否，它小巧玲珑、携带方便、快速好用，避免了烦杂的计算，便于检测现场使用。笔者认为：小径管在进行AC磁化时，只要①提升力≥45N（磁极与工件表面间隙0.5mm）②只要标准试片上的人工缺陷磁痕能够清晰显示，即可有效地进行MT。

同意张先生评论！