减少曝光时间，可以减小散射线的影响么？

经常在文章资料中，看到这么一句话“减少曝光时间，可以减小散射线的影响”。这句话正确么？

这句话不正确吧。

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我想是不对的！

我认为是正确的。“可以”减小在实践中能体现。不防护的情况下我拍过46厚的纵缝420千伏2分钟底片合格，做了件呆事350千伏7分钟就发现有散射线影响。

“减少曝光时间，可以减小散射线的影响”。应该这样理解：当射线检测工艺参数符合射线技术等级、底片要求时，采用最小的曝光时间。

橙子 发表于 2012-3-2 11:02
“减少曝光时间，可以减小散射线的影响”。应该这样理解：当射线检测工艺参数符合射线技术等级、底片要求时 ...

同意{:soso_e163:}

不正确{:soso_e183:}

散射线分为两个部分：来自工件的和透照场所反射的散射线。一般后者可通过屏蔽屏或减少透照场解决问题，而来自工件本身的散射线是不容易去除的。根据三大效应作用机理和大致的能量范围，常规射线检测电压在100～300KV对应的康普顿散射占主流，故检测中对比度将受到散射线的削弱影响。此时使用铅增感屏，一方面由于光电效应产生大量的光电子，有利于曝光，同时过滤来自工件本身的散射线。
从此看，曝光时间并不影响我们的散射线。

同意丁工意见！迄今为止，在国际国内权威资料上，找不到时间影响散射线的内容！